11月7日|據科創板日報,在第八屆進博會上,半導體設備供應商ASML展示其部分全景光刻產品與技術。其中,DUV光刻機包括TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。TWINSCAN XT:260這款i-line光刻機是ASML首款可服務於先進封裝領域的光刻系統,具有大視場曝光,相較於現有機型可提高4倍生產效率;TWINSCAN NXT:870B在升級的光學器件和最新一代磁懸浮平台的支持下,可實現每小時晶圓產量(wph)400片以上。
新聞來源 (不包括新聞圖片): 格隆匯