12月15日|阿斯麥(ASML)首席執行官克里斯托夫·富凱表示,公司為High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光刻機)所設計的光刻改進方案已得到驗證,成像效果極佳,分辨率非常出色。目前公司正與客户合作,以全面完善該光刻系統的成熟度。報道稱,阿斯麥將與客户密切配合,確保High-NA EUV在明年內實現停機時間降至最低的穩定運行。富凱預計,High-NA EUV將在2027至2028年間實現大規模量產。